2026年9月9日
其他资讯

我国第一颗直拉硅单晶主要研制者丁守谦逝世 享年97岁

清华大学发布讣告:中国科学院院士周炳琨逝世,享年90岁,系我国激光及信息光电子学领域奠基人和开拓者之一

九旬科学家落幕:中国半导体材料事业的开拓者

据公开信息,我国第一颗直拉硅单晶的主要研制者之一、南开大学电子信息与光学工程学院丁守谦教授,于2026年9月5日在天津逝世,享年97岁。

丁守谦1930年出生于湖南攸县,九三学社社员。1953年毕业于北京大学物理系本科,1956年获北京大学物理系研究生学历,后被分配到南开大学物理系任助教。

1959年9月15日:一颗硅单晶与一个时代的开端

1958年,丁守谦调任天津703厂(现中电科46所)技术员。同年9月,天津市公安局在玛钢厂成立“601实验所”,丁守谦被任命为硅单晶研究小组组长。小组共7人,除一位年近六旬的长者外,其余成员年龄均在30岁以下。

当时条件极为简陋——两间空平房,一无所有。丁守谦后来回忆,他到书店搜集资料时,厂长叮嘱“见到有硅字的书就买”。团队从俄文版《半导体冶金学》和黄昆、谢希德合著的《半导体物理学》中获取基础知识。

硅的熔点为1415℃,化学特性活泼,须在真空或惰性气体保护下熔化。团队利用废弃高压变压器产生高频振荡将硅粉熔化成硅块。在无现成设备可参照的情况下,丁守谦凭记忆复述在北京看到的锗单晶炉构造,由组员绘图,玛钢厂各工种配合制造。经改进设计,在炉壁和提拉杆上加装水冷套、增设观察窗。

1959年9月15日,团队用自制硅单晶炉拉制出中国首个纯度达3个9的直拉硅单晶。1960年,团队又实现7个9纯度的区熔硅单晶。

从硅单晶到显示技术:跨越半个世纪的学术足迹

1973年,丁守谦调回南开大学电子科学系任讲师。1985年作为访问学者赴西德图屏根大学应用物理研究所,与电子光学专家弗·棱茨(F·Lenz)教授合作研究。1986年晋升为教授。

丁守谦长期从事电子光学研究,创建“非近轴光学”理论,拓展高斯近轴光学。发表论文80余篇,出版多本专著。1989年,其“双线圈回归法偏转磁场测量及精度自检验系统”获国家发明二等奖。研发的“四探针法普遍公式”和“Q表法最佳频率选定公式”两项硅单晶纯度检测技术被定为国家标准,沿用至今。

丁守谦还推动创办国际信息显示学会(SID)北京分会并担任第一、二届理事长。1989年起,受国家委托面向产业界举办企业领导培训班,被尊称为中国偏转线圈的“开山鼻祖”。21世纪初,他为推动中国3G自主标准发展作出重要贡献,与业内专家并称“TD三剑客”。

2026年9月7日,九三学社中央公示第八批“九三楷模”拟表彰人选,丁守谦位列其中。公示称其“90多岁高龄,依然活跃在科研创新一线”。就在数月前,96岁的丁守谦在“天津九三楷模”表彰活动中发表获奖感言时说:“我很幸运遇见了一个伟大的时代,遇见了一个创造奇迹的时代,我为自己能够在科技战线上尽一些力感到自豪。”

本文由AI辅助生成

分享到: